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990,5% hochreiner PSA-Sauerstoffgenerator für Halbleiterherstellung

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990,5% hochreiner PSA-Sauerstoffgenerator für Halbleiterherstellung

990,5% hochreiner PSA-Sauerstoffgenerator für Halbleiterherstellung
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Großes Bild :  990,5% hochreiner PSA-Sauerstoffgenerator für Halbleiterherstellung

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: GNEE
Zertifizierung: SGS
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: ≥1Sets
Verpackung Informationen: Request/Anpassung des Kunden
Zahlungsbedingungen: Moneygram, Western Union, T/T, D/P, D/A, L/C.
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 25 jeden Monat

990,5% hochreiner PSA-Sauerstoffgenerator für Halbleiterherstellung

Beschreibung
Steuerung der Steuerung: 0,2 kW 220 V 50 Hz Sauerstoffausgang: ≤ 50 Nm3/h
Nettogewicht: 22 kg Produkttyp: Sauerstoffgenerator
SauerstoffTaupunkt: -40 ℃ oder -60 ℃ Prozessform: Druckschwingenaufnahme (PSA)
Modell Nr: PSA Sauerstoffgenerator Skid montiert: Ja
Auslassdruck: 4 bis 5,5 bar Einstellbar Verwenden: Krankenhäuser
Hervorheben:

PSA-Sauerstoffgenerator mit hoher Reinheit

,

PSA-Sauerstoffanlage für Halbleiter

,

99

990,5% PSA-Sauerstoffgenerator mit hoher Reinheit für die Halbleiterherstellung
Beschreibung des Produkts

PSA-Sauerstoffgenerator(Oxygengenerator mit Druckschwingadsorption) ist eine wichtige saubere Ausrüstung in der Halbleiterherstellung.es erreicht eine tiefe Reinigung durch doppelschichtige Molekularsiebe (normale Molekularsiebe + hochreine Molekularsiebe), um Sauerstoff mit einer Konzentration von mehr als 99 zu erzeugen0,5%.

Es weist wesentliche Vorteile wie stabile Reinheit, hohe Sauberkeit, zuverlässigen Betrieb und Null Emissionen von Schadstoffen auf.die die strengen Anforderungen an Sauerstoffreinheit und -reinheit in Verfahren wie Oxidation und Dünnschichtdeposition bei der Halbleiterherstellung erfüllen kann. Als oberste Konfiguration fürPSA Sauerstoffanlage Reinheit, die Verunreinigungen (Stickstoff, Feuchtigkeit, Kohlendioxid usw.) im Sauerstoff, der durch diese Anlage erzeugt wird, alle unter den ppm-Wert gehalten werden,Vermeidung einer Verringerung der Splitterleistung durch unzureichende SauerstoffreinheitEs ist eine unentbehrliche Kernsauerstoffversorgungsanlage für die Halbleiterherstellung.

Produktparameter
Leistung (Nm3/h) Effektiver Gasverbrauch (Nm3/min) Luftreinigungssystem Einlass-/Auslasskaliber ((mm)
50.78KJ-1DN25 DN15
101.75KJ-2DN25 DN15
203.55KJ-6DN40 DN15
305.25KJ-6DN40 DN25
407.0KJ-10DN50 DN25
508.7KJ-10DN50 DN25
6010.5KJ-12DN50 DN32
8013.75KJ-20DN65 DN40
10016.64KJ-20DN65 DN40
15024.91KJ-30DN80 DN40
20033.37KJ-40100 DN. 50 DN.
30049.82KJ-60DN125 DN50
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Warum ist bei der Herstellung von Halbleitern eine extreme Sauerstoffreinheit erforderlich?

Die Halbleiterherstellung stellt den Höhepunkt der Präzisionsherstellung dar, wobei die Chipprozesse die Nanometer-Skala (5nm, 3nm) erreicht haben.LeistungsschwächeDer Sauerstoff wird hauptsächlich in Kernprozessen wie Oxidation (Bildung von SiO2-Isolationsschichten) und Chemische Dampfdeposition (CVD) in der Halbleiterherstellung eingesetzt.Die Sauerstoffreinheit beeinflusst unmittelbar die Einheitlichkeit der Isolationsschichtdicke, Filmhaftung und elektrische Leistung des Chips.

Der gewöhnliche industrielle Sauerstoff (93% Reinheit) enthält Verunreinigungen wie Stickstoff und Feuchtigkeit, die auf der Splitteroberfläche Defekte bilden können, was zu einer Verringerung des Ertrags um 10-20% führt; im Gegensatz dazu sind 99.5% hochreiner Sauerstoff kann den Verunreinigungsgehalt unter dem ppm-Wert kontrollierenDie zweischichtige molekulare Sieb-Adsorptionstechnologie desPSA-SauerstoffgeneratorDie Anlage kann Verunreinigungen wie Stickstoff, Feuchtigkeit und Kohlendioxid aus der Luft tiefgreifend entfernen.PSA Sauerstoffanlage ReinheitDie Steuerungsgenauigkeit übersteigt bei weitem die der herkömmlichen Sauerstofferzeugungsanlagen und erfüllt vollständig die Prozessanforderungen der Halbleiterherstellung.

Darüber hinaus haben die Halbleiterhersteller extrem hohe Anforderungen an die Sauerstoffreinheit. Das Ausgangsgas muss der Reinraumklasse 100 entsprechen (nicht mehr als 100 Partikel ≥ 0.5 μm pro Kubikfuß Luft). DiePSA-Sauerstoffgeneratorist mit einem hocheffizienten Gasfiltersystem ausgestattet, das winzige Sauerstoffpartikel filtern kann, wodurch Partikelkontamination auf der Chipoberfläche vermieden und die Chipqualität weiter gewährleistet wird.

Leitfaden für die Beschaffung: Auswahlkriterien für die Halbleiterindustrie

Beim KaufPSA-Sauerstoffgenerator, Halbleiterunternehmen müssen sich an vier Grundprinzipien halten: "qualifizierte Reinheit, Reinraumkompatibilität, Stabilität und Zuverlässigkeit und vollständige Lieferantenqualifikationen".

  • In Bezug auf die Reinheit ist es unerlässlich, Geräte mit einer Sauerstoffreinheit von ≥ 99,5% und einem Verunreinigungsgehalt auszuwählen, die den Anforderungen des Halbleiterprozesses entsprechen.und von den Lieferanten die Bereitstellung von Prüfberichten von Dritten (z. B. SGS) verlangen., ITS)
  • In Bezug auf die Reinraumkompatibilität ist zu bestätigen, dass die Ausgangsgasreinheit der Ausrüstung ≥Klasse 100 beträgt und das Geräteshügel die Anforderungen an die Installation im Reinraum erfüllt.
  • In Bezug auf Stabilität und Zuverlässigkeit sollten Produkte mit einer Dauer des Dauerbetriebs von ≥ 8.000 Stunden/Jahr und einer Garantie für Kernkomponenten von ≥ 3 Jahren bevorzugt werden.
  • Die Qualifikation der Lieferanten ist von entscheidender Bedeutung.PSA-basierte SauerstoffanlageProduktionsqualifikationen, Zertifizierung des Qualitätsmanagementsystems ISO9001 und einschlägige Zertifizierungen der Halbleiterindustrie (z. B. SEMI-Zertifizierung),und verlangen, dass sie erfolgreiche Fälle in der Halbleiterindustrie vorlegen

Der Kundendienst muss den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie entsprechen.und schnelle Ersatzteilversorgung, um den langfristigen stabilen Betrieb der Anlagen zu gewährleisten.

Mit seinem 99,5% hohen ReinheitsvorteilPSA-SauerstoffgeneratorDie Präzision der Reinheitskontrolle, die saubere Gasausgabe,und eine stabile Betriebsleistung können zuverlässige Sauerstoffversorgung für Halbleiterprozesse ermöglichen, so dass es für die Chiphersteller eine wichtige Ausrüstung zur Verbesserung der Erträge und zur Senkung der Kosten darstellt.

Zusätzlich zu PSA-Sauerstoffgeneratoren produzieren wir auch VPSA-Sauerstoffgeneratoren, Speichertanks, Wärmetauscher und andere Produkte.Bitte senden Sie eine E-Mail anInfos@gneeheatexWir werden Ihnen gerne dienen.

Kontaktdaten
Henan Gnee New Materials Co., Ltd.

Ansprechpartner: Mrs. Kelly

Telefon: +86 15824687445

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